“我决定启动第二条八英寸晶圆，0.5微米制程芯片生产线的建设计划，争取三到四年内建成，这样送到李家坡培训的那批同志正好可以接手，发挥关键作用。”

    “0.5微米制程的芯片生产线你怎么可能买得到？你曾经说过美倭出口我国的芯片生产线至少要领先两代以上。

    我虽然不太关注半导体行业，但是我知道目前正在建设的芯片生产线主流标准是0.35微米制程，你想买到0.5微米制程的生产线我看至少要等少三四年。”

    “呵呵，杨希，没想到你还挺关心这一块的！”

    “那当然，谁让你动不动就念叨这些！”

    “本来确实如此，不过国外在进步，咱们华投也同样在进步，咱们离0.5微米的光刻机已经一步之遥，如果倭国鬼子要想打压我国的发展，不下大本钱是不行了！”

    孙祖杰嘴上这么说，实际上他还是在咋呼，欧派微造联合国内的科研院所目前也才刚刚吃透1微米光刻机的生产技术，这还是因为看到了倭国进口光刻机才提前搞定的。

    但是华国在浸入式光刻技术上研究了将近十年，已经有了不少独家秘诀，两相结合，生产出0.5微米制程的芯片已经成为可能。

    这样一来，只要欺骗得当，就很有可能逼迫美倭早一点出口0.5微米光刻机，要知道九十年代，早一年晚一年这差距太大了。

    芯片制造工艺的更新换代大概三年一个周期，但进入奔腾时代，制程工艺的进步速度更快，竟然达到了两年一个周期。

    到了1993年，主流的芯片制造工艺已经达到了0.5微米，然后Intel公司两年一代，0.35微米，0.25微米，0.18微米，到了2001年已经实现了0.13微米工艺的量产。

    考虑到芯片工厂长达两年的建设周期，向华国这样的追赶者简直无所适从，基本上芯片生产线还在建设中，就已经落后于主流标准了。

    但是存储器却不一样，存储器的制造工艺要落后于处理器，8英寸，0.5微米制程生产线只要建成，到90年代末都不算落后，这样就有可能收回成本。

    而据孙祖杰所知，中芯国际新世纪初建设的类似的生产线经过改造升级之后照样赚钱赢利了，所以从这个角度上，这样的生产线建设越早越赚钱。

    当然赚钱倒是其次，最重要的是如果制程工艺达到了0.5微米的标准，华国在模拟芯片和功率元件的制造上的差距就没有巨大了。

    这样孙祖杰就可以相当宽松的在这两个领域加大追赶的力度，同时还在DRAM领域给三星添一些麻烦，打压他们的发展速度。

    再考虑到2002年前后传统的干式光刻机遇到了困难，而当初浸入式光刻机推广的困难让孙祖杰觉得在芯片制程领域追赶上主流水平或者只差距一代，并不是没有可能。

    至于EUV时代，那就要赌大运了，反正大家现在起步都差不多，他就不相信激光技术相当不错的华国会没有机会。

    但是要实现他设想的目标，除了人，就是钱。人现在已经有了目标，张汝京至少有很大的机会，而印象中让三星制程工艺突飞猛进的梁孟松，此时刚刚加入台积电，孙祖杰已经决定不惜一切代价得到他，但是这同样需要时间。

    至于钱，中枢给了他一百亿国债，他准备都用在这条新芯片生产线上，有一百亿应该差不多可以建设一条线了。
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