样机看不见的内部，无数比头发丝还细的激光穿过几十个精密镜头后，准确击中锡液滴靶，四处分散的等离子体被收集，将掩膜版上的图形信息透过缩图透镜完完整整复刻到下面的晶圆，曝光晶圆。

    一个小时后，各小组汇报结果。

    “完成光刻试验任务，没有异常。”

    “一小时内成功曝光160片晶圆，比目前已知的ASML EUV NEX3400B机型每小时曝光125片晶圆吞吐量多达35片！套刻误差不超过2nm！”

    “数据已全部记录，根据数据计算显示，可以在原样机的基础上将效率提高至少18%，套刻误差提高到2nm以下。”

    “一片晶圆可得芯片数量等于晶圆面积/芯片面积-晶圆直径/芯片对角线长，照该公式计算我们目前使用的12英寸晶圆一片可得到的芯片数量，不过最后可用的芯片数目得等到封测完毕才能知道最终的晶圆良率。”

    经过光刻机曝光后的一大块晶圆还需要封装成一个完整的颗粒，再进行切割，最后测试。通过测试选出性能稳定、完好、容量足的芯片，剩下不合格的部分就会被当成废品处理。

    稳定的芯片和不合格的芯片对比得出的数据称为晶圆良率，总良率超过90%才算可盈利的商品。

    而晶圆制作过程历经三百多个步骤，其中随便哪个步骤出现差错就能导致整片晶圆损毁或拉低良率。

    一粒肉眼看不见的灰尘掉进正在制作中的晶圆，它就会立即报废，所以光刻过程必须保证在恒温、无尘车间内工作。

    “其余数据稳定！稳定！稳定！”

    “13.5nmEUV样机，实验验收完毕！”

    “验收通过！”

    ……

    一片无声沉默中，盛明安率先开口：“可以向上报告，准备新机研制和新项目研发。”

    下一刻，实验室内猛然爆发欢呼，还有人喜极而泣，他们埋头苦干了四五年！

    有人在这行甚至干了十年以上，还以为有生之年都不能看到国产EUV的诞生，怎么能想得到不仅看到了、还是自己参与的项目！

    所以怎么能不喜极而泣？怎能不相拥欢呼？

    林成建眼睛有点湿了，他忽然很想钻回自己的小房间，拿出妻子的照片将喜悦分享给她。

    国产EUV的诞生代表了世界半导体市场资源将从美国向华国倾斜，高通之流的庞然大物再不能风光多久。

    如果妻子知道了，她的在天之灵也会欣慰吧。

    杜颂瞥见林成建湿了的眼眶，想到发生在他身上的悲惨往事，不由拍了拍的肩膀以示安慰。

    这时陈惊G转身宣布：“今年每个人都能拿到一年工资份额的年终奖！”

    “！！”

    全年双倍工资？！

    所有人发自内心欢呼得更加雀跃了。

    其他非蓝河科技的人虽艳羡但也知道国产光刻机的问世将会给他们各自所在的企业带来巨大利益，所以他们年底的年终奖必然也很丰厚，实在用不着羡慕人家。

    蓝河科技国产EUV样机验收通过的消息跟插了翅膀似的，迅速飞出去，首先得知消息的人当然是一早就关注蓝河科技实验验收的华兴、华芯、微电子科技和华电科等半导体龙头企业。

    当天，华电科会议室门口的秘书听到会议室里头突然传来
本章还未完，点击下一页继续阅读>>>