黑科技进修手册: 山巍[04](科技霸权!...)(1/8)
研究生的贴在电子发?烧友论?坛里火了, 连翻十几?页,盖了一?栋两千层大楼,楼里都是来求证的半导体圈内人。
【13.5nm光源系统设备专利注册……吹吧, 吹到牛皮破了说?不定国外人真相信了。】
【专利都申请, 不可能有假吧?】
【建议你?查一?查汉芯事件,当年凭一?块美国二手芯片在国内注册专利, 狂揽十几?亿。学术圈造假比比皆是, 诺贝尔奖都能造假,何况一?个专利?】
【要真是13.5nm光源系统设备被研发?出来, 堪比EUV的国产光刻机就能造出来了吧?我国多久能追上ASML?】
【傻吗你??人家ASML四五十年前开始研究光刻机, 集齐全球两千多名?顶级工程师, 镜头用德国蔡司,光源用美国Cymer, 垄断双工作台技术……我国追上现在的ASML至少需要二十年!】
【我国虽然不至于举国之力研发?光刻机, 但这方面也?布局二十多年,不至于被ASML比到尘埃去吧?】
【申市微电子科技目前只能造出90nm工艺制程的光刻机,还不确定是否能量产, 你?说?差距多大?】
【怎么歪楼了?不是涛13.5nm光源系统设备是否真的被研发?出来吗?】
【假如!假如13.5nm光源系统设备被研发?出来, 我国多久能拥有一?台国产EUV?】
【保守估计,明年下个季度。但也?有可能, 今年年底可实现国产EUV验收。】
【!!!不是还有其他子系统设备没研发?出来吗?】
【只要最关键的光源系统设备和双工作台系统研发?出来, 其他问题被解决只需要时间和人手。】
【看来还是没人知道13.5nm光源系统设备被研发?出来到底意味着什?么!】
【所以你?能说?明白吗?】
【春城和申市两大光机所接下光学子系统研发?(就是高精度镜头), 水木大学研发?团队负责双工作台系统(工程已验收),南大光电是光刻胶,蓝河科技接下光源系统科学专项, 申市微电子科技负责最终组装……蓝河科技已跟申市微电子科技达成合作!】
【说?得再简单点,研发?出13.5nm光源系统设备就意味着极紫外光刻机最迟明年一?定能验收!】
【我只关心一?点, 美帝芯片制裁是不是再也?不能威胁到我国?】
【说?再多的光刻机,我国半导体产业不如美帝发?达完善。】
【emmm……美狗来了?国外不够你?舔,国内发?疯?】
【楼上上蠢而?不自知,照我国的速度,一?旦有了国产EUV,两三年内必定建成比美国还完善的半导体产业链!】
【说?的没错!我国IC设计其实赶得上美国水平,主要还是光刻机限制了我们的发?展。】
【666。】
【话说?,你?们看专利申请的发?明人那一?行了吗?】
【……没注意到,我回去看――】
【看完回来,下巴没了,膝盖跪烂。】
【???我大中?华16亿人,同名?同姓的概率最小也?有1%!所以此盛明安一?定不是我认识的盛明安对吧?】
【蓝河科技跟盛明安有什?么关系?盛明安不是科大
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