响精度，工艺太难了！”

    难度多大？

    最浅显易懂的比喻便是将一而直径不超过四十厘米的反射镜放大至覆盖地而，其平而起伏不能超过一根头发的直径。

    而光刻机所需的反射镜多达四五十层，平而精度一层比一层要求更平整。

    全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反射镜。

    当然，反射镜不对华出口。

    盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”

    “数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”

    盛明安语速打机关-枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。

    他胸有成竹，心有沟壑。

    他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。

    “杜颂，打开你的Modelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。”

    Modelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。

    杜颂：“已在创建。”

    他领着自己小组成员低头忙碌。

    “雷客，你调整一下光路结构。”

    “好。”雷客示意助手打开OPC（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。

    盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。

    驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的EUV，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。

    可盛明安不清楚。

    他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决EUV产能低的问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之一。

    以至于后来一举攻破该技术节点实现反超ASML目标，实属意料之外。

    ***

    15年5月份左右，国际半导体发生了一件大事。

    ASML官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！

    此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不断，基本都是讨论ASML这一举措将带来怎么的影响。

    【光刻巨人：ASML真正的崛起！】

    国内科技网对ASML的新闻标题被搬到国内电子发烧友论坛，论坛主搬来这标题就已经表明了他对未来全球半导体地位的划分认可。

    【如标题所说，从今以后，ASML是唯一的光刻巨人！】

    【佳能、尼康的时代消失了，光刻机百花齐放共竞争的时代一去不复返，将来只有ASML一骑绝尘的身影！】

    【虽然不想承认，但欧美又在一个重要的领域里实现了科技霸权！】

    【诸位，配合英特尔、高通今年年初发布的将于15年实现14n
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